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詳細資料ISBN：9789863581291 叢書系列：知識平方 規格：平裝 / 176頁 / 16K菊 / 14.8 X 21 CM / 普通級/ 單色印刷 / 初版 出版地：台灣 內容簡介 日本生產工程權威獎項得主力作，圖解與表格詳實，帶領工程師掌握半導體乾蝕刻技術的全貌，提升現場即戰力。 ◎作者於1989年，以「有磁場微波電漿蝕刻技術的開發與實用化」受獎大河內紀念賞。1994年，以「低溫乾蝕刻設備的開發」受獎機械振興協會賞通產大臣賞。 ◎圖解乾蝕刻技術的原理與實務，讓你一讀即懂。 ◎由製程直到設備、新技術，更進一步設置有關電漿損傷的章節，以便理解全貌並了解乾蝕刻今後的課題與展望。 針對半導體乾蝕刻技術涉及的電漿物理、化學、材料、電磁等複雜現象，循序解析，詳解各環節的連帶影響，提升現場即時應變的作戰能力，為優秀工程師養成必備的工具書！ 非等向性蝕刻是如何實現？為何SI的蝕刻使用CL2及HBR，而SIO2的蝕刻則使用氟碳系列的氣體？為何POLY-SI及AL的蝕刻使用ICP（電感耦合式電漿）之類的高密度電漿，而SIO2的蝕刻則使用中密度電漿於間距狹窄的平行板型蝕刻機？ 本書告訴你這些連現場資深乾蝕刻工程師都不見得充分理解的知識。從乾蝕刻技術的基礎講到應用，讓初學者容易理解與整理；對於已有程度、經驗的工程師而言，讀之更加能理解、掌握乾蝕刻技術的全貌。 《半導體乾蝕刻技術》精彩內容請看：WWW.PRESSSTORE.COM.TW/FREEREADING/9789863581291.PDF |
| 搜尋參考資料: 1. 博客來-半導體乾蝕刻技術 2015年3月1日 ... 書名：半導體乾蝕刻技術，語言：繁體中文，ISBN：9789863581291，頁數：176，出版社：白象文化，作者：野尻一男，譯者：倪志榮，出版 ... 2. 蝕刻技術 蝕刻技術可以分為『濕蝕刻』(wet etching)及『乾蝕刻』(dry etching)兩類。在濕蝕刻中是使用化學 ... 在半導體製程上，蝕刻更是不可或缺的技術。 2. 濕蝕刻(Wet Etching). 3. 北美智權報第110期：TRIZ與半導體製程技術(二) 2014年7月1日 ... 本案所討論的「乾蝕刻」(Dry Etching)技術是半導體元件製程的重要步驟之一，乾蝕刻是一種「非等向性蝕刻」(Anisotropic Etching)技術，該技術具有 ... 4. 化學與半導體 - 臺灣大學化學系 之外的光學及有機半導體，最後揭示於德國化學期刊所刊登之最新半導體量子點研究成果。 一、半導體的 ...... 另一種乾蝕刻技術是將惰性的氣體分子如Ar. 施以電壓， ... 5. 刻蚀技术_百度百科 干蚀刻是一类较新型，但迅速为半导体工业所采用的技术。其利用电浆(plasma) 来进行半导体薄膜材料的蚀刻加工。其中电浆必须在真空度 ... 6.半導體乾蝕刻技術~優質購物網 半導體乾蝕刻技術 |
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